最近，在GTC
NVIDIACEO黄仁勋在接受2025年大会采访时表示，基于围绕围栏的围栏，（GAA）晶体管的下一代工艺技术将为新一代GPU带来约20%的性能提升。如果不出意外，黄仁勋提到的新一代GPU应该是预计2028年推出的Feynman架构产品。

　　报告显示，黄仁勋似乎有意淡化问答环节工艺节点变化的重要性。他强调，随着摩尔定律的放缓，未来新工艺技术在芯片密度、功率和能效方面的改进将相对有限，估计只能带来20%左右的性能改进。黄仁勋指出，虽然领先工艺技术带来的改进值得肯定，但已不再具有变革性意义。他指出，“我们将接受它”，并认为其他因素在当前更为关键。随着人工智能系统的不断扩展，管理大量GPU的效率比单个GPU的原始性能更为重要。

　　从过去的情况来看，NVIDIA通常不会率先采用最新的台积电工艺，而是倾向于选择新的成熟工艺技术。例如，目前NVIDIA采用台积电4nm工艺技术为消费者和数据中心生产Ada
Lovelace、Hopper、Blackwell等GPU架构，而台积电的4nm节点制程实际上是5nm节点制程的改进版本。NVIDIA下一代GPU架构Rubin计划选择台积电3nm节点制程，可能是N3P或为NVIDIA定制的版本。

　　可以推断，NVIDIA首款选择GAA制程技术的产品很可能是2028年推出的Feynman架构GPU。然而，黄仁勋并没有提到他将使用哪家制造商的GAA制程技术，所以理论上，积电的N2制程技术、三星的类似技术，甚至是互联网
18A都有被选中的可能。